高純三氟化氮
三氟化氮是用作氟化氫-氟化氣高能化學激光器的氟源，在h2-O2 與F2之間反應能的有效部分(約25%)可以以激光輻射釋放出，所HF-OF激光器是化學激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體，對硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對表面無污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑。
注意事項：
| 化學式 | NF3 | 危險貨物編號 | 23016 | |
| 理化性質 | 外觀與性狀 | 無色刺激氣體 | 飽和蒸汽壓（kpa） | ＞101.35（20°） |
| 熔點（℃） | -208.5℃ | 相對密度(空氣=1) | 2.46 | |
| 沸點（℃） | -129℃ | 臨界溫度（℃） | -39.3℃ | |
| 毒性及健康危害 | 侵入途徑 | 吸入。 | ||
| 健康危害 | 吸入該物質會引起呼吸道不適，本產品低毒，但是它能強烈刺激眼睛和皮膚黏膜，腐蝕組織 | |||
| 急救方法 | 吸入時，迅速脫離現場至空氣新鮮處，保持呼吸道通暢，不可進行口對口人工呼吸，就醫；立刻脫掉污染衣服，用大量水沖洗，并給予醫療護理；眼睛接觸時，用水徹底沖洗至少15分鐘，就醫 | |||
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產品規格 |
99.9% |
99.99% |
99.995% | |||||
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四氟化碳（CF4） |
≤500ppm
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≤40ppm
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≤20ppm |
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氮氣（N2） |
≤50ppm
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≤5ppm
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≤5ppm
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氧+氬（O2+Ar） |
≤50ppm |
≤5ppm
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≤3ppm
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二氧化碳（CO2） |
≤10ppm
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≤5ppm
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≤1ppm
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水（H2O） |
≤1ppm
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≤1ppm
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≤1ppm
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酸份（以HF計） |
≤1ppm
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≤1ppm
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≤1ppm
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六氟化硫（SF6）
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≤25ppm
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≤2ppm
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≤1ppm
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氧化亞氮（N2O） |
≤10ppm
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≤5ppm
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≤1ppm
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| 一氧化碳（CO） |
≤10ppm |
≤5ppm |
≤0.5ppm |
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