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1、四氟化硅，是一種無機化合物，化學式為SiF4，分子結構是Si原子以sp3雜化軌道形成σ鍵，分子形狀為正四面體形，主要用于氟硅酸及氟化鉛的制取，也用作水泥和人造大理石的硬化劑、制造純硅的中間體。四氟化硅在常溫下為無色、有毒、有刺激性臭味的氣體，溶于乙醇、醚、硝酸、氫氟酸，在潮濕的空氣中可產生濃煙霧，生成硅氧化物和氟化氫。四氟化硅可與堿性物質產生劇烈反應，與大部分含有水汽的材料反應生成極易燃的氫氣。

2、高純四氟化硅在電子氣體和半導體行業中發揮著舉足輕重的作用，因此對四氟化硅氣體的雜質進行脫除和凈化，對于加快四氟化硅氣體的推廣應用具有重要的意義。國內外有關5N（99.999%）級高純四氟化硅電子特氣研究內容主要分為四氟化硅制備工藝技術和四氟化硅粗料提純工藝技術兩個方面。四氟化硅氣體的純度和潔凈度直接影響到光電子、微電子元器件的質量、集成度、特定技術指標和成品率，從根本上制約著電路和器件的精確性和準確性，是我國亟待攻克的電子與半導體行業的“卡脖子”技術產品。

3、國內外對四氟化硅氣體的制備與應用有很多制備四氟化硅的方法，但每種方法都存在著有優勢與不足，目前國內市場上的高純四氟化硅產品，存在總金屬雜質含量高的缺點，無法滿足半導體行業對電子特氣的需要，高品質的四氟化硅產品主要依賴美國和日本進口，針對市場需求，開發高層次、高品質，以適應國內需求參與國際競爭。